Penna per incisione CIF DCP24

Pompa a membrana per BB4.
Riscaldatori a resistenza regolabili con spia luminosa, 50 W per BB4 e BB2, 100 W per BB3.
Lente in ceramica per macchine in schiuma BB2 e BB3.

Apparecchiature per sviluppo di circuiti stampanti

Queste vasche di trattamento sono disponibili in diverse versioni per consentire la realizzazione della seguente procedura di produzione a 7 stadi: 1. Sviluppo, 2. Lavaggio, 3. Incisione, 4. Lavaggio, 5. Eliminazione resist, 6. Lavaggio, 7. Stagnatura chimica.